大容量光催化反應儀CN-GHX-B主要特征：

1光化學(xué)反應儀具有智能微電腦控制，可觀(guān)察電流和電壓實(shí)時(shí)變化。

2.進(jìn)口光源控制器，內置光源轉換器，功率連續可調，穩定性高。

3.光化學(xué)反應儀具有分步定時(shí)功能，操作簡(jiǎn)便。

4.反應暗箱內壁使用防輻射材料，且帶有觀(guān)察窗。

5.采用內照式光源，受光充分，燈源采用耐高壓防震材質(zhì)，經(jīng)久耐用。

6.配有8（6/12可選）位磁力攪拌裝置，使樣品充分混勻受光。

7.雙層耐高低溫石英冷阱，可通入冷卻水循環(huán)維持反應溫度。

8. 光化學(xué)反應儀高溫度保護系統，自動(dòng)斷電功能。

9.機箱外部結構設有循環(huán)水進(jìn)出口，內部設有2個(gè)專(zhuān)用插座，供燈源和攪拌反應器用。

光化學(xué)反應儀的日常維護對于確保設備的長(cháng)期穩定運行和實(shí)驗結果的準確性至關(guān)重要。以下是光化學(xué)反應儀日常維護的一些關(guān)鍵步驟和注意事項：
1. 清潔與保養
  反應器清潔：每次使用后，及時(shí)清理反應器內部，避免殘留物積累。使用適當的溶劑（如水、乙醇等）清洗反應器，確保無(wú)殘留。
  光源清潔：定期檢查光源（如汞燈、氙燈等）表面是否有污垢或灰塵，使用干凈的軟布或鏡頭紙輕輕擦拭，避免劃傷光源表面。
  光學(xué)元件清潔：定期檢查光學(xué)元件（如透鏡、濾光片等）的清潔度，使用專(zhuān)用的光學(xué)清潔劑和軟布進(jìn)行清潔。
2. 光源檢查與更換
  光源壽命監測：定期檢查光源的使用時(shí)間，記錄光源的使用壽命。大多數光源（如汞燈、氙燈）有一定的使用壽命，超過(guò)使用壽命后應及時(shí)更換。
  光源性能檢查：定期測試光源的輸出功率和光譜特性，確保光源性能穩定。如果發(fā)現光源輸出功率下降或光譜異常，應及時(shí)更換光源。
3. 冷卻系統維護
  冷卻液檢查：如果設備配備冷卻系統，定期檢查冷卻液的液位和質(zhì)量，確保冷卻系統正常運行。冷卻液不足或污染會(huì )影響設備的散熱效果，導致光源過(guò)熱或損壞。
  冷卻系統清潔：定期清潔冷卻系統的散熱器和風(fēng)扇，確保散熱效果良好，避免設備過(guò)熱。
4. 電氣系統檢查
  電源線(xiàn)檢查：定期檢查電源線(xiàn)和連接線(xiàn)是否有磨損或老化現象，確保電氣連接安全可靠。
  電路板檢查：定期檢查設備的電路板和電子元件，確保無(wú)松動(dòng)或損壞。如果發(fā)現異常，應及時(shí)聯(lián)系專(zhuān)業(yè)人員進(jìn)行維修。
5. 軟件與控制系統維護
  軟件更新：如果設備配備控制軟件，定期檢查是否有軟件更新，及時(shí)升級軟件以獲得最新的功能和修復已知問(wèn)題。
  參數校準：定期校準設備的控制參數（如溫度、光照強度等），確保實(shí)驗條件的準確性和可重復性。
6. 環(huán)境維護
  工作環(huán)境清潔：保持設備工作環(huán)境的清潔，避免灰塵和污染物進(jìn)入設備內部，影響設備的正常運行。
  溫濕度控制：確保設備工作環(huán)境的溫度和濕度在設備規定的范圍內，避免環(huán)境條件對設備造成損害。
7. 定期檢查與維護記錄
  定期檢查：制定定期檢查計劃，按照設備說(shuō)明書(shū)的要求進(jìn)行全面的設備檢查和維護。
  維護記錄：詳細記錄每次維護的時(shí)間、內容和發(fā)現的問(wèn)題，便于跟蹤設備的運行狀態(tài)和維護歷史。
8. 專(zhuān)業(yè)維護
  定期專(zhuān)業(yè)維護：建議定期聯(lián)系設備制造商或專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員進(jìn)行全面的設備檢查和維護，確保設備處于最佳工作狀態(tài)。
通過(guò)以上日常維護措施，可以有效延長(cháng)光化學(xué)反應儀的使用壽命，確保實(shí)驗結果的準確性和可靠性。

大容量光催化反應儀CN-GHX-B技術(shù)參數：

型號：CH-GHX-BC大容量控溫光化學(xué)反應儀

（一）主體部分

1.光源功率可連續調節大小。

2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調節范圍：0~1000W可連續調節。

4.氙燈功率調節范圍：0~1000W可連續調節。

5.金鹵燈功率調節范圍：0~500W可連續調節。

（二）d容量反應部分

1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。

2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

（三）控溫裝置

1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W

2.控溫范圍：-5°C到100°C

3.冷卻水循環(huán)裝置設有腳輪和底部排液閥。